隨著半導體工藝節點不斷演進，晶圓表面的潔凈要求也越來越嚴苛。晶圓表面微污染雜質是影響芯片良率和芯片產品性能的關鍵因素。為應對高階工藝對微污染控制提出的新挑戰和新需求，11月19日，集成電路材料產業技術創新聯盟（以下簡稱“材料聯盟”）與科百特過濾器材有限公司（以下簡稱“科百特”）共同舉辦的集成電路超凈工藝技術Workshop在杭州蕭山區順利舉行。

此次會議采用了線上線下同時進行的形式，來自集成電路制造、硅材料、工藝化學品、光刻膠、CMP材料等產業鏈上下游企業的高層、技術人員及研究院所的學者共計約80余人參加了此次會議。

杭州市蕭山區倪世英副區長首先致辭，熱烈祝賀本次Workshop順利召開，并表達了蕭山區大力支持集成電路產業發展的決心。

倪世英副區長致辭

材料聯盟石瑛秘書長進行了連線致辭，她表示，我國集成電路材料產業經過近十年的發展，已經取得了很好的成績。有一批企業已經成長起來，并有一大批產品在國內的邏輯電路以及先進存儲制造中大批量應用。但是，在材料技術開發和生產與應用中的微污染，包括顆粒污染、金屬雜質的污染等是行業目前共同面對的技術難題。在硅片、光刻膠、工藝化學品、電子特氣，甚至靶材等領域，超凈技術都是非常關鍵和核心的技術。因此，材料聯盟從今年起將定期舉辦超凈工藝技術Workshop。她感謝各位嘉賓蒞臨會議，感謝報告嘉賓即將呈現的精彩報告，以及科百特對此次會議的組織和支持，并預祝會議圓滿完成。

石瑛秘書長在線上致辭

隨后，科百特創始人兼CEO張應民致辭，他介紹了科百特的發展狀況。表示科百特一直專注在膜技術的發展，在集成電路領域可用于光刻、清洗、刻蝕和拋光等200多個工藝點的微污染過濾和純化，最小精度已經做到1nm?？瓢偬卦诩{米過濾純化膜的研發道路上，離不開廣大客戶的鼎力支持?？瓢偬亟窈笠矊⒗^續堅持攻克各項技術難關，并與產業鏈上的各企業一起，攜手共創更好的未來。

張應民CEO致辭

上海集成電路材料研究院董事長俞文杰致辭，他表示集成電路是戰略性、基礎性、先導性的產業，隨著國家集成電路行業的發展深化，產業鏈各支撐環節越來越受矚目，此次會議是一個加深產業鏈上下游溝通交流互動的平臺。他對Workshop的舉行表示熱烈祝賀，并預祝本次workshop圓滿成功。

俞文杰董事長致辭

此次會議特別邀請了武漢新芯集成電路制造有限公司首席運營官孫鵬、上海華力集成電路制造有限公司先進模塊濕法研發專家李芳科長、安集微電子科技(上海)股份有限公司應用總監王勝利和杭州科百特過濾器材有限公司CTO山田善章(Yamada Yoshiaki)做了精彩報告。

上海華力集成電路制造有限公司先進模塊濕法研發專家李芳科長線上做了《先進工藝清洗技術發展及其對相關材料的需求》的報告，從清洗工藝的發展和挑戰給材料廠家提供了方向和建議。隨著晶體管結構逐漸過渡到立體的鰭式結構、應力效應鍺化硅的導入、高深寬比深槽結構的增加等一系列挑戰，清洗工藝步驟約占到總工藝步驟的20-30%，對相關材料的需求也不斷增加。華力研發部門同時也正在與業內企業積極合作，開展相關濕法設備和化學材料的多元化評估。

武漢新芯集成電路制造有限公司首席運營官孫鵬在《高純化學品微污染控制》的報告中指出未來5-7年，全球半導體市場總體趨勢樂觀向上，市場需求驅動點更為豐富。先進制程對濕法刻蝕提出更高要求，刻蝕工藝要求提高良品率及可靠性控制，微顆?？刂剖顷P鍵之一。他還進行了案例分享，提出高品質化學品供應的關鍵三點：穩定生產、警惕變更及快速響應。尤其是數據的保存和監控過程非常重要，供應商在品質管理上必須達到體系化和數字化，才能保證向Fab供應高品質穩定的化學品。

安集微電子科技（上海）股份有限公司應用總監王勝利在《先進制程刻蝕后清洗技術》的報告中表示安集配制濕法化學液的產品范圍可以滿足不同HVM需求，包括鋁、銅、鈷互聯及晶圓級別封裝應用；并始終專注于CMP拋光液及定制濕法化學品，經過15年來的積累沉淀，具備現場支持的質量管控能力；作為配制濕法化學液的行業領頭企業之一，致力于尋求與客戶和合作伙伴的更好合作。

上午的最后一個報告是由科百特的首席技術官山田善章給出的《半導體制造工藝整體潔凈解決方案》，他表示隨著半導體器件的微細化和高集成化，半導體工序數的增加以及所使用的藥液的多樣化在不斷拓展，對藥液的品質提升要求的不斷提高引發出一系列的課題，如何在化學品供應鏈中進行污染控制；如何保持藥液的品質、提升其潔凈度；以及從成本角度如何采用更有效的手段等。他還介紹了科百特的相關產品，并表示公司在開發新產品的同時亦開發了新的評價技術、導入了最先進的分析設備，并注重同步提升自身的設備管理技術，最大限度保持分析設備的最佳狀態。

下午，參會的技術專家分別參觀了科百特半導體濾芯百級潔凈車間、7000平技術驗證中心、200L超凈包裝桶和高純化學品內襯設備制造車間，嘉賓們對科百特的公司文化、生產過程和質量管控體系有了近距離直觀了解，對未來的技術和產業合作起到了積極作用。

之后，由材料聯盟咨詢委專家、寧波南大光電材料有限公司總經理許從應主持了技術交流會。參會嘉賓共同探討了半導體先進制造工藝微污染控制面臨的挑戰，工藝化學品和光刻膠技術專家們分享了材料的現狀和急需要攻克的難題，其中TMAH的純化與高純化學品的包裝容器備受關注。與會代表紛紛表示此次Workshop對于探討應用端和各材料生產環節遇到微污染問題及其解決方案是非常有效的組織方式。