一、標準背景
高純六氯乙硅烷是一種性能穩定、揮發性低的濕度敏感性的特種氣體，主要用于半導體行業氧化硅膜、氮化硅膜的制備，在半導體、光電材料等領域有著廣泛的應用前景。與傳統的化學氣相沉積法制備的氧化硅、氮化硅薄膜相比，六氯乙硅烷的沉積溫度低、沉積壓力低、效率高，且得到薄膜的密度、絕緣性、抗腐蝕性、兼容性皆更優。
目前國內產業的六氯乙硅烷需求逐年增長，且大部分依賴進口。國內近年對高純六氯乙硅烷的科研投入逐漸增多，一些企業已經有了自己的生產技術并已進行量產，逐步開拓國內外市場。在市場化階段，良莠不齊的技術指標和充裝、運輸要求，使各企業如閉門造車，因此一套適合國內技術和應用水平的標準出臺迫在眉睫，以打破依賴進口的被動局面。
二、標準制定
在此之前，國家標準、行業標準及SEMI標準中均無六氯乙硅烷產品標準可供行業參考，因此《集成電路用六氯乙硅烷》團體標準的制定和發布及時填補了行業空白，為國內各企業生產高純六氯乙硅烷產品提供了指導。
《集成電路用六氯乙硅烷》團體標準制定參與單位包括洛陽中硅高科技有限公司、江蘇南大光電材料股份有限公司、江蘇雅克科技股份有限公司、中巨芯科技有限公司等，集中了我國主要的六氯乙硅烷研發生產單位，并廣泛征集上下游意見，具有較高的代表性和實施可行性。 本團體標準的制定過程嚴格按照聯盟《標準制定程序》進行，歷時14個月于2020年2月24日正式發布。
三、標準主要內容
本標準的主要內容包括以下幾部分：
其中，“技術要求”結合了用戶要求及國內生產現狀，按照六氯乙硅烷產品用途分為A、B兩個級別，A級可以直接供集成電路客戶使用，B級為原料級產品精制提純后滿足集成電路用戶使用要求，技術指標如下：
“組分的測定”中規定了氣相色譜儀、色譜柱的儀器類型，載氣、吹掃氣的純度等；給出了推薦的色譜條件，包括柱長、檢測器溫度、進樣口溫度、柱箱溫度、載氣流量、吹掃氣流量、分流比等；以及分析結果的計算公式與表述方法。
“雜質元素含量的測定”規定了電感耦合等離子體質譜儀、電子天平、器皿的類型；以及潔凈環境、超純水、硝酸、氫氟酸、標準貯存溶液的要求；并描述了推薦的分析步驟。
本標準還明確了六氯乙硅烷產品的包裝與運輸要求，并將“六氯乙硅烷安全技術說明”作為附錄，便于標準的閱讀與使用。
《集成電路用六氯乙硅烷》團體標準免費為聯盟成員提供電子版原文，有需求的單位請發送郵件至liuyan@icmtia.com，聯系人：劉巖。